箱式气氛炉(高温箱式炉)百科

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气氛炉1400℃

气氛炉1400℃用途：适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备

更新时间：2024-03-25 厂商性质：生产厂家 浏览次数：1649
气氛炉1100℃

气氛炉1100℃用途：适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备

更新时间：2024-03-25 厂商性质：生产厂家 浏览次数：1580
GR.AF 箱式气氛炉

GR.AF系列箱式气氛炉，具有*的性能设计，集多项于一身，安全性，可靠性，实用性均达Z佳效果

更新时间：2024-03-25 厂商性质：生产厂家 浏览次数：2129

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