真空管式炉，在进行这些实验时需要注意哪些要点

　　真空管式炉的特点是在某一既定温度下，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，主要应用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。院校实验室和工矿企业实验室，在进行高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等实验时，会经常用到真空管式炉，在进行这些实验时需要注意以下几点事项：
 

　　1、实验样品的安装和支撑架的热导率要低，以确保试验样品与安装和支撑架间处于一种绝热的状态；
 

　　2、检查高温真空管式炉的试验区内有无油气等易挥发性物质和有气味的物质，这类物质对试验的影响必须预行确认；
 

　　3、冷炉使用时，由于管式炉膛是冷的，须吸热，所以低温段升温速率不易过快，各温度段的升温速率差别不易太大，设置升温速率时应充分考虑所烧结材料的物理化学性质，以免出现喷料现象，污染炉管。
 

　　4、炉温尽量不要超过额定温度，以免损坏加热元件及炉衬。
 

　　5、管式炉在温度试验测试结束以后，必须在试验样品冷却到室温后才能取出样品，否则会对样品产生不必要的应力，会对样品产生不可逆转的影响；
 

　　6、为保持管式炉温区内温度一致，需要尽可能试验环境温度及设备动力电源的波动小，确保试验样品不产生热辐射，不吸收热量从而试验区内的温度平稳。